CONSUM LAC POLIURETANIC PE BAZA DE APA “EMEX POLIMAT”

Lac Poliuretanic pe Baza de Apa pentru Protectie si Corectie “Emex Polimat” - sistem bicomponent hibrid, de inalta calitate, de ultima generatie, realizat dintr-un amestec echilibrat de doua dispersii poliacrilice hidroxifunctionale, reticulabil cu poliizocianat hidrofilic alifatic.
Un mare avantaj al acestui lac este absenta mirosului, fapt care permite aplicarea foarte facila la interior, in spatii inchise.
Are o versatilite exceptionala si, se utilizeaza ca strat final in sisteme de protectie a unei game variate de suporturi din ciment, travertin, beton amprentat, piatra, caramida aparenta, lemn, parchet, etc., prin formarea unei pelicule continue, cu aspect superior, rezistente la poluantii industriali, agenti chimici, apa si murdarie, factori de mediu sau radiatii UV, etc., cu rezistenta pentru perioade lungi de timp.
Este destinat utilizarii strict profesionale.
Se poate utiliza si pentru supralacuirea vopselelor si pardoselilor epoxidice sau poliuretanice, fie pentru realizarea unui aspect mat, care sa nu reflecte lumina, fie pentru estomparea defectelor de turnare, sau alte similare. Lacul poate fi aplicat peste orice vopsea bicomponenta, atat pe baza de apa cat si de solvent.
In cazul suprafetelor din microbeton, microciment sau chiar beton, pelicula de lac inchide porii suportului, realizand o bariera ce reduce semnificativ penetrarea agentilor chimici agresivi din atmosfera (bioxid de carbon, compusi cu sulf, azot, clor, apa, alte saruri), ce grabesc degradarea amestecurilor cimentice.
Este indicat, in egala masura si pentru pentru protectia parchetului, a dusumelelor de scandura, sau a lemnului in general, tratat sau netratat.
In zona de industrie, se poate folosi ca strat final in sisteme de protectie exploatate in medii agresive ca: factori chimici si/ sau corozivi, medii acide, alcaline, solventi chimici, hidrocarburi, expunere la abur sau umiditate, dupa incheierea procesului de uscare si intarire in profunzime, variatii mari de temperatura, etc.